[实用新型]一种提高镀膜均匀性的镀膜装置

权利要求书

1.一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体(1)，所述加工箱体(1)内设置有蒸发组件(2)，其特征在于：围绕所述蒸发组件(2)中心圆周布置有多个高度调节杆(3)，所述高度调节杆(3)上设置有面向所述蒸发组件(2)中心的镜片组安装板(4)。

2.根据权利要求1所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述加工箱体(1)包括箱本体(101)，所述箱本体(101)一侧设置有抽真空组件(102)。

3.根据权利要求1所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述高度调节杆(3)包括一端连接于所述蒸发组件(2)中心处另一端向外延伸的杆体(301)，所述杆体(301)表面沿所述杆体(301)路径方向设置有直槽口(302)，所述直槽口(302)内活动设置有调节滑块(303)，所述调节滑块(303)和所述杆体(301)之间设置有定位结构(304)。

4.根据权利要求3所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述定位结构(304)包括设置于所述调节滑块(303)侧壁的定位杆(3041)，沿所述杆体(301)表面设置有多个定位孔(3042)，所述定位杆(3041)一端设置有用于插设于其中一个所述定位孔(3042)内的定位螺钉(3043)。

5.根据权利要求4所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述镜片组安装板(4)包括设置于所述调节滑块(303)上的安装板本体(401)，所述安装板本体(401)下表面横向布置有多个朝向所述蒸发组件(2)中心的镜片安装座(402)。

6.根据权利要求2所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述抽真空组件(102)内设置有泵体(100)。

7.根据权利要求3所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述调节滑块(303)两侧壁分别贴紧于所述直槽口(302)对应的一侧壁活动。