[实用新型]一种提高镀膜均匀性的镀膜装置

说明书

本实用新型公开一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体，所述加工箱体内设置有蒸发组件，围绕所述蒸发组件中心圆周布置有多个高度调节杆，所述高度调节杆上设置有面向所述蒸发组件中心的镜片组安装板，本实用新型解决了现有镀膜装置中存在的不足，通过本实用新型的结构设置，具备以下的优点，根据加工需求，在调节镜片离蒸发组件镀膜源之间距离时，能进一步的保证多个镜片距离镀膜蒸发源的长度接近，提高整体的镀膜均匀性，提高整体镜片镀膜的一致性，提高生产质量，且结构简单，使用方便。

技术领域

本实用新型涉及镀膜装置，特别涉及一种提高镀膜均匀性的镀膜装置。

背景技术

真空镀膜机，主要是在真空环境下，通过真空离子蒸发的手段来将靶材表面组分以原子团或是离子的形式蒸发出来，随后通过技术手段将其沉降在镜片表面，从而通过成膜过程来形成薄膜，由于现有的镜片安装支架为弧形状，镜片安装孔布置在弧形状的镜片安装支架内，因此，在调节镜片安装支架上下高度位置时弧形圆心和蒸发组件中心将会发生偏移，导致处于不同位置的镜片安装支架表面的镜片安装孔距离蒸发组件中心的距离不一，因此在调节镜片距离蒸发组件中心的过程中会导致后续镜片镀膜不均匀的情况出现。

故此，现有的镀膜装置需要进一步改善。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了提供一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，能在调节多个镜片安装孔水平高度时，最大化的保证多个镜片距离蒸发组件中心长度接近，提高整体镀膜均匀性。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体，所述加工箱体内设置有蒸发组件，围绕所述蒸发组件中心圆周布置有多个高度调节杆，所述高度调节杆上设置有面向所述蒸发组件中心的镜片组安装板。

进一步地，所述加工箱体包括箱本体，所述箱本体一侧设置有抽真空组件。

进一步地，所述高度调节杆包括一端连接于所述蒸发组件中心处另一端向外延伸的杆体，所述杆体表面沿所述杆体路径方向设置有直槽口，所述直槽口内活动设置有调节滑块，所述调节滑块和所述杆体之间设置有定位结构。

进一步地，所述定位结构包括设置于所述调节滑块侧壁的定位杆，沿所述杆体表面设置有多个定位孔，所述定位杆一端设置有用于插设于其中一个所述定位孔内的定位螺钉。

进一步地，所述镜片组安装板包括设置于所述调节滑块上的安装板本体，所述安装板本体下表面横向布置有多个朝向所述蒸发组件中心的镜片安装座。

进一步地，所述抽真空组件内设置有泵体。

进一步地，所述调节滑块两侧壁分别贴紧于所述直槽口对应的一侧壁活动。

综上所述，本实用新型相对于现有技术其有益效果是：

本实用新型解决了现有镀膜装置中存在的不足，通过本实用新型的结构设置，具备以下的优点，根据加工需求，在调节镜片离蒸发组件镀膜源之间距离时，能进一步的保证多个镜片距离镀膜蒸发源的长度接近，提高整体的镀膜均匀性，提高整体镜片镀膜的一致性，提高生产质量，且结构简单，使用方便。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的立体图之一；

图3为本实用新型的立体图之二。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供