[实用新型]一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备有效

专利信息
申请号: 202121497763.3 申请日: 2021-07-02
公开(公告)号: CN214923338U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 马科宁 申请(专利权)人: 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料科技有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/06;B24B53/007;B08B3/02
代理公司: 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 代理人: 李斌栋;姚勇政
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备,所述中转装置包括:平台,所述平台形成有第一开口,所述第一开口用于利用真空将硅片吸附于所述平台,所述平台还形成有多个第二开口,所述多个第二开口用于朝向所述平台的外侧喷射清洗液;设置在所述平台外围的筒状罩体,所述筒状罩体构造成能够将所述抛光设备的抛光头围绕,所述筒状罩体设置有多个喷嘴,所述多个喷嘴用于朝向所述筒状罩体的径向内侧喷射清洗液。
搜索关键词: 一种 硅片 抛光 设备 使用 中转 装置
【主权项】:
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