[实用新型]一种PECVD镀膜装置有效
申请号: | 202120785182.3 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN214830650U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 高斌;施文成;李友军;李友萍 | 申请(专利权)人: | 无锡德欣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/44 |
代理公司: | 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 | 代理人: | 吕志垚 |
地址: | 214000 江苏省无锡市锡山区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于镀膜装置领域,尤其是一种PECVD镀膜装置,针对现有的镀膜装置不便于镀膜时提高镀膜的质量的问题,现提出如下方案,其包括底座,所述底座的顶部固定连接有两个支撑板,两个支撑板的一侧固定连接有同一个镀膜箱,所述镀膜箱的一侧固定连接有进气管和出气管,进气管和出气管的一端固定连接有同一个收集箱,进气管的一端固定连接有活性炭过滤板,且镀膜箱的一侧转动连接有门,所述底座的顶部固定连接有电机,电机的输出轴上固定连接有第一旋转柱,第一旋转柱上固定连接有两个第一锥齿轮,两个第一锥齿轮分别啮合有第二锥齿轮和第三锥齿轮,本实用新型便于镀膜时提高镀膜的质量,且结构简单,操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的