[实用新型]一种便于维护的硅片抛光用研磨设备有效
| 申请号: | 202120140670.9 | 申请日: | 2021-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN214519535U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
| 发明(设计)人: | 陈锋;沈国君;陆勇;汪国平 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08;B24B37/34 |
| 代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
| 地址: | 324300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型涉及硅片加工技术领域,且公开了一种便于维护的硅片抛光用研磨设备,包括主体,所述主体的前侧固定连接有固定柱,所述固定柱的内部开设有固定槽,所述固定槽的内底壁连接有固定轴承,所述固定轴承通过固定短管连接有第一齿轮,所述第一齿轮的内部螺纹连接有螺杆。该便于维护的硅片抛光用研磨设备,通过固定柱、固定轴承、固定短管、第一齿轮、螺杆、转轴、第二齿轮、限位柱、盛放台、转轴、固定杆、固定盘、真空吸嘴、固定螺母、连通管和微型真空隔膜泵之间的相互配合,可以通过真空吸嘴将游星轮内的硅片吸起,达到了便于将硅片从游星轮内取出的效果,解决了当硅片置于游星轮内时,此时的硅片不便于进行人工卸料的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 便于 维护 硅片 抛光 研磨 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江众晶电子有限公司,未经浙江众晶电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120140670.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种单晶硅片清洗用可调式花篮
- 下一篇:一种单晶硅片生产用夹取装置





