[实用新型]一种便于维护的硅片抛光用研磨设备

权利要求书

1.一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，包括主体(1)，其特征在于：所述主体(1)的前侧固定连接有固定柱(2)，所述固定柱(2)的内部开设有固定槽，所述固定槽的内底壁连接有固定轴承(3)，所述固定轴承(3)通过固定短管(4)连接有第一齿轮(5)，所述第一齿轮(5)的内部螺纹连接有螺杆(6)，所述螺杆(6)的侧表面与固定柱(2)的内部活动连接，所述固定柱(2)的内部活动连接有转轴(7)，所述转轴(7)的侧表面固定套接有第二齿轮(8)和把手，所述第一齿轮(5)与第二齿轮(8)啮合，所述螺杆(6)的侧表面固定套接有固定板，所述固定板的底部固定连接有限位柱(9)，所述固定柱(2)的内部开设有限位孔，所述限位柱(9)的侧表面与限位孔的内部活动连接，所述固定柱(2)的右侧固定连接有盛放台(10)，所述螺杆(6)的侧表面活动连接有转杆(11)，所述转杆(11)的内部活动连接有固定杆(12)，所述固定杆(12)的侧表面固定套接有固定盘(13),所述固定盘(13)的内部连接有真空吸嘴(14)，所述真空吸嘴(14)的侧表面螺纹连接有固定螺母(15)，所述真空吸嘴(14)的顶部通过第一导管连接有连通管(16)，所述连通管(16)通过第二导管连接有微型真空隔膜泵(17)。

2.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，其特征在于：所述固定短管(4)的侧表面与固定轴承(3)的内部固定连接，所述第一齿轮(5)的底部与固定短管(4)的顶端固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，其特征在于：所述固定槽的内顶壁开设有通槽，所述螺杆(6)的侧表面与通槽的内部活动连接。

4.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，其特征在于：所述固定盘(13)的内部开设有第一通孔，所述固定杆(12)的侧表面与第一通孔的内部固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，其特征在于：所述固定盘(13)的内部开设有第二通孔，所述真空吸嘴(14)的侧表面与第二通孔的内部活动连接。

6.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光用研磨设备，其特征在于：所述连通管(16)的顶部固定连接有分管(18)，所述分管(18)的内部固定连接有密封板(19)和固定架(20)，所述固定架(20)的内部螺纹连接有螺纹轴(21)，所述螺纹轴(21)的底端固定连接有活塞头(22)，所述密封板(19)的内部开设有排气槽，所述活塞头(22)的底部与密封板(19)的顶部抵持。