[发明专利]一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜在审

专利信息
申请号: 202111641737.8 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114428091A 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 朱京涛;孙航;林旺;陈溢祺;屠洛涔;郭汉明 申请(专利权)人: 苏州闻道电子科技有限公司
主分类号: G01N23/20008 分类号: G01N23/20008
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 霍苗
地址: 215400 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及中子超反射镜技术领域,尤其涉及一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜。本发明提供了一种Ni/Ti非周期多层膜的制备方法,包括以下步骤:在N2、O2和Ar的混合气氛中,在基底表面溅射Ni层,得到NiNxOy层;所述x的取值范围为0≤x1,所述y的取值范围为0≤y1;在Ar气氛中,在所述NiNxOy层的表面溅射Ti层,得到Ti层;重复上述溅射Ni层和溅射Ti层的过程,得到所述Ni/Ti非周期多层膜;所述重复的次数≥1。所述Ni/Ti非周期多层膜的制备方法可以降低界面粗糙度,提高成膜质量。
搜索关键词: 一种 ni ti 周期 多层 及其 制备 方法 应用 中子 反射
【主权项】:
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