[发明专利]用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统有效
| 申请号： | 202111631818.X | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114191835B | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 葛丁;吴久伟;李勇;官国英 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | B01D3/12 | 分类号： | B01D3/12;B01D5/00 |
| 代理公司： | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人： | 王鹏鑫 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统。分子蒸馏装置包括：箱体，其限定形成上方具有开口的容纳腔；盖体，用于将所述容纳腔的开口打开或封闭，所述盖体设有抽真空口；装载部，用于容装合金，所述装载部可拆卸地安装于所述盖体，当所述盖体将所述容纳腔封闭时，所述装载部位于所述容纳腔内；加热部，设置于所述容纳腔内，用于对所述装载部进行加热，以使所述合金中的放射性杂质分子逸出；以及冷凝部，在所述装载部的上方可拆卸地安装于所述盖体上，用于收集从所述合金中逸出的放射性杂质分子。本申请的技术方案提供了一种能够去除合金中的放射性杂质的分子蒸馏装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 合金 放射性 杂质 分子 蒸馏 装置 净化系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院，未经中国原子能科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111631818.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
