[发明专利]用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统

权利要求书

1.一种用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置，其特征在于，包括：

箱体，其限定形成上方具有开口的容纳腔；

盖体，用于将所述容纳腔的开口打开或封闭，所述盖体设有抽真空口；

装载部，用于容装合金，所述装载部可拆卸地安装于所述盖体，当所述盖体将所述容纳腔封闭时，所述装载部位于所述容纳腔内；

加热部，设置于所述容纳腔内，用于对所述装载部进行加热，以使所述合金中的放射性杂质分子逸出；以及

冷凝部，在所述装载部的上方可拆卸地安装于所述盖体上，用于收集从所述合金中逸出的放射性杂质分子；

其中，所述冷凝部包括：

多层沿竖向间隔设置的冷凝盘，其中，每层所述冷凝盘具有通孔，以在所述冷凝部内部形成供放射性杂质分子流动的通道；

所述冷凝部包括位于最底层的第一冷凝盘，所述第一冷凝盘的通孔形成在所述第一冷凝盘的中间，且其直径大于等于所述第一冷凝盘直径的一半；

其中，所述装置还包括：冷却部，设置于所述盖体上，用于冷却所述冷凝部；所述冷却部环绕所述冷凝部的中上部设置；

所述装置还包括：隔热部，设置于所述盖体上，且在所述冷却部的下方环绕所述冷凝部的下部设置。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装载部可拆卸地安装于所述冷凝部上。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述抽真空口与所述通道连通。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一冷凝盘的通孔的直径为所述第一冷凝盘直径的三分之二。

5.根据权利要求1或4所述的装置，其特征在于，所述冷凝部还包括位于所述第一冷凝盘上方的多层第二冷凝盘，

其中，两个相邻第二冷凝盘的通孔相互错开。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，两个相邻第二冷凝盘的通孔相对于所述冷凝部的呈轴对称分布。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述隔热部包括：

隔热框架；和

多个隔热球，填充于所述隔热框架中。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：

升降机构，用于带动所述盖体沿竖向移动，以将所述容纳腔的开口打开或封闭。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述加热部限定形成上方具有开口的加热腔，

其中，当所述盖体将所述容纳腔封闭时，所述装载部位于所述加热腔内。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述加热部包括：

加热丝；和

支撑体，供所述加热丝穿设其中。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述支撑体包括：

底壁；

自所述底壁的周缘向上延伸的周壁；以及

自所述周壁沿径向向内延伸的多层肋板，所述多层肋板沿竖向间隔分布，

所述加热丝穿设于所述底壁和所述多层肋板。

12.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：

保温部，设置于所述容纳腔内，所述保温部限定形成上方具有开口的保温腔；

所述加热部设置于所述保温腔内。

13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述保温部包括：

保温框架；和

多个保温球，填充于所述保温框架中。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述合金为铅铋合金，所述保温球由氧化铝制成。

15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述箱体的底壁开设多个开口。