[发明专利]用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统

说明书

本发明实施例公开了一种用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统。分子蒸馏装置包括：箱体，其限定形成上方具有开口的容纳腔；盖体，用于将所述容纳腔的开口打开或封闭，所述盖体设有抽真空口；装载部，用于容装合金，所述装载部可拆卸地安装于所述盖体，当所述盖体将所述容纳腔封闭时，所述装载部位于所述容纳腔内；加热部，设置于所述容纳腔内，用于对所述装载部进行加热，以使所述合金中的放射性杂质分子逸出；以及冷凝部，在所述装载部的上方可拆卸地安装于所述盖体上，用于收集从所述合金中逸出的放射性杂质分子。本申请的技术方案提供了一种能够去除合金中的放射性杂质的分子蒸馏装置。

技术领域

本发明涉及分子蒸馏技术领域，尤其是涉及一种用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置及净化系统。

背景技术

在池式铅铋反应堆的设计中，一回路铅铋介质全部被包容在池体内，堆容器及堆顶盖构成包容一回路铅铋介质的池体边界，一回路铅铋介质在堆容器内部完成循环过程。

一回路铅铋介质中会存在少量的放射性杂质。在现有技术中，去除合金中的放射性杂质通常需要将合金溶解到溶液中，再从溶液中将放射性杂质提取出去。

发明内容

第一方面，本发明实施例提供了一种用于去除合金中放射性杂质的分子蒸馏装置，包括：

箱体，其限定形成上方具有开口的容纳腔；

盖体，用于将所述容纳腔的开口打开或封闭，所述盖体设有抽真空口；

装载部，用于容装合金，所述装载部设置于所述盖体，当所述盖体将所述容纳腔封闭时，所述装载部位于所述容纳腔内；

加热部，可拆卸地安装于所述容纳腔内，用于对所述装载部进行加热，以使所述合金中的放射性杂质分子逸出；以及

冷凝部，在所述装载部的上方可拆卸地安装于所述盖体上，用于收集从所述合金中逸出的放射性杂质。

第二方面，本发明实施例提供了一种用于去除合金中放射性杂质的净化系统，包括：

本申请第一方面的分子蒸馏装置；

冷却液供应装置，用于向所述分子蒸馏装置提供冷却液；以及

抽真空装置，用于对所述分子蒸馏装置进行抽真空。

附图说明

通过下文中参照附图对本发明所作的描述，本发明的其它目的和优点将显而易见，并可帮助对本发明有全面的理解。

图1是根据本发明一个实施例的分子蒸馏装置的示意性结构图；

图2是图1所示分子蒸馏装置的侧视图；

图3是图1所示分子蒸馏装置的剖视图；

图4示出了图3所示分子蒸馏装置的盖体运动至与箱体分离的示意图，图中省略了部分结构；

图5是图3所示分子蒸馏装置的冷凝部的结构示意图；

图6是图5所示冷凝部的剖视图；

图7是图3所示分子蒸馏装置的加热部的结构示意图；

图8是图7所示加热部的剖视图；

图9是图7所示加热部的附视图；

图10是图7所示加热部的仰视图；以及

图11是根据本发明一个实施例的净化系统的示意性结构图。

附图中：