[发明专利]一种耐清洗的增透膜及其制备方法

摘要

本发明公开一种耐清洗的增透膜，其依次包括基底层、相互交替的SiO2层与Ti3O5层；其中，所述增透膜的最外层为Ti3O5层，相互交替的所述SiO2层与所述Ti3O5层的总光学厚度之和为4.8212±0.2，所述增透膜除所述基底层之外包括8层以上；还公开一种耐清洗的增透膜的制备方法。本发明基于常规的增透膜膜系结构，开创性地于增透膜的最外层增加一层Ti3O5层，以克服传统增透膜经多次清洗后最外层被腐蚀而引起分光反射率变化的问题，进而提高增透膜的耐腐蚀、光吸收和增透等性能，减小入射光的能量损耗；并且本发明公开的制备方法可优化各膜层之间的致密性和附着力，进而增强增透膜的宽谱透过率等光学性能。