[发明专利]一种凹面镜制造方法、凹面镜以及合分波器在审

专利信息
申请号: 202111591230.6 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114355492A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 刘权 申请(专利权)人: 苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司
主分类号: G02B5/10 分类号: G02B5/10;G02B5/08;G02B27/09;G02B27/10
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 代理人: 韩玲
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种凹面镜制造方法,属于光学元件领域,包括以下步骤:镀膜:在本体两侧分别镀制高反膜以及应力膜,所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度;形变:应力膜的应力使本体弯曲,所述本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面,所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面,本发明凹面镜制造方法通过镀制应力膜,使本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面,本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面,不需要模压或者研磨抛光,制造成本低,并且分割后能够形成若干小型凹面镜,利于凹面镜的小型化,使凹面镜应用范围更广。本发明还涉及根据上述凹面镜制造方法制造的凹面镜以及包含上述凹面镜的合分波器。
搜索关键词: 一种 凹面镜 制造 方法 以及 合分波器
【主权项】:
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