[发明专利]一种凹面镜制造方法、凹面镜以及合分波器

说明书

本发明公开了一种凹面镜制造方法，属于光学元件领域，包括以下步骤：镀膜：在本体两侧分别镀制高反膜以及应力膜，所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度；形变：应力膜的应力使本体弯曲，所述本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面，所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面，本发明凹面镜制造方法通过镀制应力膜，使本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面，本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面，不需要模压或者研磨抛光，制造成本低，并且分割后能够形成若干小型凹面镜，利于凹面镜的小型化，使凹面镜应用范围更广。本发明还涉及根据上述凹面镜制造方法制造的凹面镜以及包含上述凹面镜的合分波器。

技术领域

本发明涉及光学元件领域，尤其是涉及凹面镜制造方法以及根据上述方法制造的凹面镜以及包含上述凹面镜的合分波器。

背景技术

凹面镜不但可以将光束进行光路的折返，同时也对可对光斑形状进行整形，在各类光学结构有比较多的应用。

凹面镜的凹面实现对光束整形的作用。凹面形态由模压或者传统研磨抛光本体的方式获得，并会在凹面表面镀制反射膜。反射膜具有比较高的反射率，达到折返光路的作用。

这种由模压或者传统研磨抛光本体的方式获得凹面的制造方法使凹面镜制造成本比较高并且不易小型化。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种制造成本低并且凹面镜易于小型化的凹面镜制造方法。

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之二在于提供一种制造成本低并且易于小型化的凹面镜。

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之三在于提供一种通过使用上述小型凹面镜，降低能量损失的合分波器。

本发明的目的之一采用如下技术方案实现：

一种凹面镜制造方法，包括以下步骤：

镀膜：在本体两侧分别镀制高反膜以及应力膜，所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度；

形变：应力膜的应力使本体弯曲，所述本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面，所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面。

进一步的，还包括分割步骤，所述分割步骤位于所述形变步骤之后，所述分割步骤具体为：对镀有所述高反膜以及所述应力膜的本体进行分割，形成若干小型凹面镜。

进一步的，所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。

进一步的，所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的5-6倍。

进一步的，所述应力膜为介质膜。

本发明的目的之二采用如下技术方案实现：

一种凹面镜，根据上述凹面镜制造方法制造，所述凹面镜包括本体、高反膜以及应力膜，所述高反膜以及所述应力膜分别镀制在所述本体两侧，所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度，所述本体镀有所述应力膜一侧由于压应力形成凸面，所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面。

进一步的，所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。

进一步的，所述应力膜为介质膜。

本发明的目的之三采用如下技术方案实现：

一种合分波器，包括主体，所述主体一侧镀有增透膜以及高反膜，所述主体另一侧设有若干滤光片，所述合分波器还包括上述凹面镜，所述凹面镜位于若干所述滤光片之间对光束进行反射以及整形。

进一步的，所述凹面镜朝向所述主体一侧还设有增透膜。