[发明专利]一种凹面镜制造方法、凹面镜以及合分波器在审
| 申请号： | 202111591230.6 | 申请日： | 2021-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN114355492A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 刘权 | 申请（专利权）人： | 苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/10 | 分类号： | G02B5/10;G02B5/08;G02B27/09;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 韩玲 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 凹面镜 制造 方法 以及 合分波器 | ||
1.一种凹面镜制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
镀膜：在本体两侧分别镀制高反膜以及应力膜，所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度；
形变：应力膜的应力使所述本体弯曲，所述本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面，所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面。
2.根据权利要求1所述的凹面镜制造方法，其特征在于：还包括分割步骤，所述分割步骤位于所述形变步骤之后，所述分割步骤具体为：对镀有所述高反膜以及所述应力膜的本体进行分割，形成若干小型凹面镜。
3.根据权利要求1所述的凹面镜制造方法，其特征在于：所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。
4.根据权利要求3所述的凹面镜制造方法，其特征在于：所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的5-6倍。
5.根据权利要求1所述的凹面镜制造方法，其特征在于：所述应力膜为介质膜。
6.一种凹面镜，其特征在于：根据权利要求1-5任意一项所述的凹面镜制造方法制造，所述凹面镜包括本体、高反膜以及应力膜，所述高反膜以及所述应力膜分别镀制在所述本体两侧，所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度，所述本体镀有所述应力膜一侧由于压应力形成凸面，所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面。
7.根据权利要求6所述的凹面镜，其特征在于：所述应力膜的厚度是所述高反膜厚度的3倍以上。
8.根据权利要求6所述的凹面镜，其特征在于：所述应力膜为介质膜。
9.一种合分波器，包括主体，所述主体一侧镀有增透膜以及高反膜，所述主体另一侧设有若干滤光片，其特征在于：所述合分波器还包括如权利要求6所述的凹面镜，所述凹面镜位于若干所述滤光片之间对光束进行反射以及整形。
10.根据权利要求9所述的合分波器，其特征在于：所述凹面镜朝向所述主体一侧还设有增透膜。
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