[发明专利]互补式高电子迁移率晶体管在审

专利信息
申请号: 202111587039.4 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN116387314A 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 侯信铭 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/085 分类号: H01L27/085;H01L29/778
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王锐
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开一种互补式高电子迁移率晶体管,其包含一基底,一N型高电子迁移率晶体管和一P型高电子迁移率晶体管设置于基底上,N型高电子迁移率晶体管包含一第一未掺杂氮化镓层、一第一量子局限沟道、一第一未掺杂III‑V族氮化物层和一N型III‑V族氮化物层由下至上堆叠,一第一栅极、一第一源极和一第一漏极设置在第一未掺杂氮化镓层的上方,P型高电子迁移率晶体管包含一第二未掺杂氮化镓层、一第二量子局限沟道、一第二未掺杂III‑V族氮化物层和一P型III‑V族氮化物层由下至上堆叠,一第二栅极、一第二源极和一第二漏极设置在第二未掺杂氮化镓层的上方。
搜索关键词: 互补 电子 迁移率 晶体管
【主权项】:
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