[发明专利]堆叠半导体器件和制造其的方法在审

专利信息
申请号: 202111570992.8 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114823666A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 宋昇炫;洪炳鹤;全辉璨;黃寅灿 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种堆叠半导体器件和制造其的方法,该堆叠半导体器件包括:衬底;第一晶体管,形成在衬底上,并包括被第一栅极结构和第一源极/漏极区围绕的第一有源区;以及第二晶体管,堆叠在第一晶体管上,并包括被第二栅极结构和第二源极/漏极区围绕的第二有源区,其中,关于其间的虚拟平面,第一有源区和第一栅极结构分别与第二有源区和第二栅极结构垂直镜像对称。
搜索关键词: 堆叠 半导体器件 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111570992.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top