[发明专利]一种免中间层、直接电沉积制备DSA电极的方法

摘要

本发明涉及一种免中间层、直接电沉积制备DSA电极的方法，属于电极制备技术领域。本发明的方法包括以下步骤：取金属基底进行前处理；取Ru3+与Ir2+溶液加入配位剂和导电盐，在一定的电流下在前处理后的金属基底表面进行电沉积，在金属基体表面形成与金属基体紧密结合的表面活性层，即可得到所述DSA电极。本发明采用电化学沉积法对活化后的钛金属基底进行贵金属电沉积，该方法制备工艺简单、节能、快速，镀层结晶程度可控，生产线设计成熟。相比于已有的产品与方法，本发明减少了贵金属的使用量，节约了生产时间，生产过程中不产生有毒废物，工艺流程成本低廉、制备简单。