[发明专利]一种能够防止金属污染的金属膜厚测量装置在审
| 申请号： | 202111506801.1 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN113959326A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 王成鑫;王同庆;路新春;田芳馨 | 申请（专利权）人： | 清华大学;华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能够防止金属污染的金属膜厚测量装置，包括：电涡流传感器，其包括磁芯和线圈，线圈沿磁芯的周向缠绕在磁芯的外周壁上，电涡流传感器还包括电磁屏蔽壳，电磁屏蔽壳的芯层由金属材料制成，并且表面涂覆有非金属材料层以防止金属离子污染；前置信号处理模块，与电涡流传感器连接，用于对电涡流传感器输入正弦激励信号，并通过电涡流传感器采集与金属膜厚相关的电压信号；数据采集处理模块，与前置信号处理模块连接，用于接收前置信号处理模块输出的电压信号将其转换为数字信号，并根据预存的厚度标定表将数字信号转换为对应的膜厚值；通讯模块，用于实现数据采集处理模块与上位机之间的通讯。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 能够 防止 金属 污染 金属膜 测量 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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