[发明专利]高维特征存储方法及装置、存储介质、电子设备在审
| 申请号： | 202111500602.X | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114168081A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 钟凯;杨娟;韩志均;李骁;陈琳莉 | 申请（专利权）人： | 中国电信股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/06 | 分类号： | G06F3/06;G06F16/51;G06F16/53;G06F16/58 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100033 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开属于计算机技术领域，涉及一种高维特征存储方法及装置、存储介质、电子设备。该方法包括：获取待存储特征，并确定与待存储特征对应的特征空间；确定待存储特征在各个特征维度上的特征值，并根据特征值在特征空间中确定基准特征；对待存储特征和基准特征进行计算得到第一特征距离，并根据第一特征距离建立待存储特征与存储区域之间的映射关系，以基于映射关系对待存储特征进行分区存储。在本公开中，通过待存储特征与基准特征之间的第一特征距离，可以对待存储特征进行分区存储，不仅减少了将所有待存储特征存储在一个节点所造成节点压力，还以分区存储的形式存储待存储特征，提升了后续特征检索的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 特征 存储 方法 装置 介质 电子设备 | ||
【主权项】：
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