[发明专利]高维特征存储方法及装置、存储介质、电子设备在审

专利信息
申请号: 202111500602.X 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114168081A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 钟凯;杨娟;韩志均;李骁;陈琳莉 申请(专利权)人: 中国电信股份有限公司
主分类号: G06F3/06 分类号: G06F3/06;G06F16/51;G06F16/53;G06F16/58
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100033 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 特征 存储 方法 装置 介质 电子设备
【权利要求书】:

1.一种高维特征存储方法,其特征在于,所述方法包括:

获取待存储特征,并确定与所述待存储特征对应的特征空间;

确定所述待存储特征在各个特征维度上的特征值,并根据所述特征值在所述特征空间中确定基准特征;

对所述待存储特征和所述基准特征进行计算得到第一特征距离,并根据所述第一特征距离建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系,以基于所述映射关系对所述待存储特征进行分区存储。

2.根据权利要求1所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述根据所述特征值在所述特征空间中确定基准特征,包括:

对与同一所述特征维度对应的所述特征值进行计算得到特征计算结果,并根据预设基准特征个数对所述特征维度进行划分,以得到所述预设基准特征个数个维度划分结果;

在所述特征空间中进行查找,以得到基准特征;其中,在所述基准特征中,与一个所述目标特征维度对应的所述特征值与所述特征计算结果一致;所述目标特征维度与所述维度划分结果对应。

3.根据权利要求2所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述根据所述第一特征距离建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系,包括:

确定与同一所述特征维度对应的所述第一特征距离,并根据所述第一特征距离计算得到同一所述特征维度下的特征距离范围;

获取预设划分间隔,并以目标基准特征为起点,按照所述预设划分间隔对所述特征距离范围进行划分得到距离划分结果;其中,所述目标基准特征与同一特征维度对应;

在所述距离划分结果中,确定所述第一特征距离所属于的目标距离划分结果,以建立在同一所述特征维度下,分区标识与所述第一特征距离之间的分区映射关系;其中,所述分区标识与所述目标距离划分结果对应;

将与所有所述特征维度对应的所述分区标识确定为与所述待存储特征对应的区域标识,并根据所述区域标识,建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系。

4.根据权利要求3所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述根据所述区域标识,建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系,包括:

查找与所述区域标识具有标识相邻关系的相邻区域标识;其中,所述相邻区域标识的至少一个所述特征维度上的所述分区标识与所述区域标识中同一所述特征维度上的所述分区标识之间具有相邻关系;

将与所述区域标识对应的所述待存储特征以及与所述相邻区域标识对应的所述待存储特征确定为目标待存储特征,以建立所述目标待存储特征与所述存储区域之间的映射关系。

5.根据权利要求4所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述基于所述映射关系对所述待存储特征进行分区存储,包括:

将与同一所述存储区域具有所述映射关系的所述目标待存储特征存储在同一计算机节点中。

6.根据权利要求4所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述方法还包括:

获取待识别对象,并提取与所述待识别对象对应的待识别特征;

计算所述待识别特征与所述基准特征之间的第二特征距离,并根据所述第二特征距离,在所有所述存储区域中确定与所述待识别特征具有识别映射关系的目标存储区域;

确定属于所述目标存储区域中的所述待存储特征,并在所述待存储特征中确定与所述待识别对象相似的目标存储特征,以将与所述目标存储特征对应的存储对象确定为识别结果。

7.根据权利要求6所述的高维特征存储方法,其特征在于,所述在所有所述存储区域中确定与所述待识别特征具有识别映射关系的目标存储区域,包括:

在所述存储区域中,确定所述第二特征距离属于的第一存储区域,并确定与所述第一存储区域对应的区域标识;

查找与所述区域标识具有所述标识相邻关系的所述相邻区域标识,并确定与所述相邻区域标识对应的第二存储区域,以将所述第一存储区域和所述第二存储区域确定为目标存储区域。

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