[发明专利]高维特征存储方法及装置、存储介质、电子设备在审

专利信息
申请号: 202111500602.X 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114168081A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 钟凯;杨娟;韩志均;李骁;陈琳莉 申请(专利权)人: 中国电信股份有限公司
主分类号: G06F3/06 分类号: G06F3/06;G06F16/51;G06F16/53;G06F16/58
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100033 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 特征 存储 方法 装置 介质 电子设备
【说明书】:

本公开属于计算机技术领域,涉及一种高维特征存储方法及装置、存储介质、电子设备。该方法包括:获取待存储特征,并确定与待存储特征对应的特征空间;确定待存储特征在各个特征维度上的特征值,并根据特征值在特征空间中确定基准特征;对待存储特征和基准特征进行计算得到第一特征距离,并根据第一特征距离建立待存储特征与存储区域之间的映射关系,以基于映射关系对待存储特征进行分区存储。在本公开中,通过待存储特征与基准特征之间的第一特征距离,可以对待存储特征进行分区存储,不仅减少了将所有待存储特征存储在一个节点所造成节点压力,还以分区存储的形式存储待存储特征,提升了后续特征检索的效率。

技术领域

本公开涉及计算机技术领域,尤其涉及一种高维特征存储方法与高维特征存储装置、计算机可读存储介质及电子设备。

背景技术

随着计算机技术的发展,在实际应用场景中,提取的样本特征维度通常很高,并且提取的样本特征的数量巨大,为了进行特征检索,就需要将这些高维度且数量巨大的特征存储。

在现有技术中,通常将这些高维度且数量巨大的特征存储在同一个计算机节点中,进而会增加这一个计算节点的存储压力,除此之外,在后续对特征进行检索的过程中,需要与存储在这一个计算节点中的所有特征进行比对,进而导致检索时间过长,检索效率低下。

鉴于此,本领域亟需开发一种新的高维特征存储方法及装置。

需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种高维特征存储方法、高维特征存储装置、计算机可读存储介质及电子设备,进而至少在一定程度上克服由于相关技术导致的将所有特征存储在一个计算机节点导致的计算机节点存储压力过大的问题。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本发明实施例的第一个方面,提供一种高维特征存储方法,所述方法包括:获取待存储特征,并确定与所述待存储特征对应的特征空间;确定所述待存储特征在各个特征维度上的特征值,并根据所述特征值在所述特征空间中确定基准特征;对所述待存储特征和所述基准特征进行计算得到第一特征距离,并根据所述第一特征距离建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系,以基于所述映射关系对所述待存储特征进行分区存储。

在本发明的一种示例性实施例中,所述根据所述特征值在所述特征空间中确定基准特征,包括:对与同一所述特征维度对应的所述特征值进行计算得到特征计算结果,并根据预设基准特征个数对所述特征维度进行划分,以得到所述预设基准特征个数个维度划分结果;在所述特征空间中进行查找,以得到基准特征;其中,在所述基准特征中,与一个所述目标特征维度对应的所述特征值与所述特征计算结果一致;所述目标特征维度与所述维度划分结果对应。

在本发明的一种示例性实施例中,所述根据所述第一特征距离建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系,包括:确定与同一所述特征维度对应的所述第一特征距离,并根据所述第一特征距离计算得到同一所述特征维度下的特征距离范围;获取预设划分间隔,并以目标基准特征为起点,按照所述预设划分间隔对所述特征距离范围进行划分得到距离划分结果;其中,所述目标基准特征与同一特征维度对应;在所述距离划分结果中,确定所述第一特征距离所属于的目标距离划分结果,以建立在同一所述特征维度下,分区标识与所述第一特征距离之间的分区映射关系;其中,所述分区标识与所述目标距离划分结果对应;将与所有所述特征维度对应的所述分区标识确定为与所述待存储特征对应的区域标识,并根据所述区域标识,建立所述待存储特征与存储区域之间的映射关系。

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