[发明专利]除电方法和等离子体处理系统在审
| 申请号： | 202111500119.1 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114664625A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 宇津木康史;冨山和哉;前田高志;北野拓磨 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种除电方法和等离子体处理系统。本发明的一个方式的除电方法，其在用处理等离子体对吸附在静电吸盘上的基片进行处理之后，对静电吸盘和基片进行除电，其包括：步骤a，在所述处理之后，生成除电等离子体；步骤b，在步骤a之后，使施加到吸附电极的吸附电压停止；步骤c，在步骤b之后，将吸附电极与经由电阻部而接地的接地线路连接，其中，电阻部能够将电阻值至少设定为第1电阻值和比该第1电阻值小的第2电阻值中的任一者；步骤d，在步骤c之前，选择电阻部的电阻值；和步骤e，在步骤d与步骤c之间，将电阻部的电阻值设定为步骤d中所选择的电阻值。根据本发明，能够抑制异常放电的产生且调节电压下降时间。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 等离子体 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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