[发明专利]电容式真空规的膜片及其电容式真空规在审
申请号: | 202111499248.3 | 申请日: | 2021-12-09 |
公开(公告)号: | CN116296050A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 曹文静;林立男;姜浩延;张琳琳;陶硕;廖兴才 | 申请(专利权)人: | 北京晨晶电子有限公司 |
主分类号: | G01L21/00 | 分类号: | G01L21/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 么立双 |
地址: | 100020*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种电容式真空规的膜片及其电容式真空规,包括膜片层、抗刻蚀层和导电层,膜片层用于将真空规的内部空间分为真空空间和被测空间,所述膜片层的材质为石英材质;抗刻蚀层设置在所述膜片层远离固定电极的一端;导电层设置在所述膜片层靠近所述固定电极的一端,用于与真空规的电极柱电连接。通过石英材质制作的膜片层作为隔膜,并在膜片层位于被测空间的一端设置抗刻蚀层,有效地提高了真空规的抗刻蚀性或防腐蚀性,并提高了膜片的应力次数,从而使真空规具有精度高、抗刻蚀性、寿命长、可重复使用、稳定性好及其实际应用广的特点,有效降低了真空规的成本。 | ||
搜索关键词: | 电容 真空 膜片 及其 | ||
【主权项】:
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