[发明专利]一种真空闪蒸系统及真空闪蒸方法在审
| 申请号： | 202111497140.0 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN113915971A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 李卫东;李新连;赵志国;赵东明;张赟;夏渊;秦校军;李梦洁;丁坤 | 申请（专利权）人： | 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司;华能新能源股份有限公司 |
| 主分类号： | F26B9/06 | 分类号： | F26B9/06;F26B5/04;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 柳虹 |
| 地址： | 102209 北京市昌平区北七家镇*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种真空闪蒸系统及真空闪蒸方法，包括：工艺腔室和至少一个预抽腔室，工艺腔室用于放置待闪蒸基片，工艺腔室和预抽腔室相互连接，工艺腔室和预抽腔室的连接口处具有真空阀门，预抽腔室的气压值低于工艺腔室的气压值，预抽腔室的体积大于工艺腔室的体积，当真空阀门处于打开状态时，工艺腔室和预抽腔室连通，由于预抽腔室的体积大于工艺腔室且预抽腔室的气压小于工艺腔室，工艺腔室的气压值迅速降低，相较于将待闪蒸基片先放入工艺腔室，再抽真空去除溶剂的长耗时而言，利用已经预先抽好真空的预抽腔室，能够缩短工艺腔室中气压值的降低时间，以缩短去除膜层中残留溶剂的时间，提升残留溶剂去除效果，降低半导体器件制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 闪蒸 系统 方法 | ||
【主权项】：
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