[发明专利]一种真空闪蒸系统及真空闪蒸方法

权利要求书

1.一种真空闪蒸系统，其特征在于，包括：工艺腔室和至少一个预抽腔室；

所述工艺腔室和所述预抽腔室相互连接，所述工艺腔室和所述预抽腔室的连接口处具有真空阀门，所述预抽腔室的气压值低于所述工艺腔室的气压值，所述预抽腔室的体积大于所述工艺腔室的体积；

所述工艺腔室用于放置待闪蒸基片；

所述预抽腔室用于当所述真空阀门处于打开状态时，降低所述工艺腔室的气压值，所述工艺腔室降低到的气压值根据所述预抽腔室的气压值、所述预抽腔室的体积和所述工艺腔室的体积确定。

2.根据权利要求1所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述预抽腔室的体积是所述工艺腔室的体积的N倍，则当预抽腔室的气压值低于第一气压阈值，所述真空阀门处于打开状态时，所述工艺腔室的气压值降低K倍，N和K之间的差值小于预定阈值，N为正数，K为正数。

3.根据权利要求2所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述预抽腔室的数量为M个，第i个预抽腔室的体积是所述工艺腔室体积的N_i倍，每个预抽腔室都与所述工艺腔室相互连接，所述M个预抽腔室的气压值都低于第二气压阈值，M为大于1的正整数，其中，M≥i≥2；

所述预抽腔室具体用于：

当同时打开所述M个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门预设时间后，关闭所述M个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门，以便所述工艺腔室的气压值接近降低倍。

4.根据权利要求2所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述预抽腔室的数量为M个，第i个预抽腔室的体积是所述工艺腔室体积的N_i倍，每个预抽腔室都与所述工艺腔室相互连接，第i个预抽腔室的气压值比第i-1个预抽腔室的气压值降低N_i倍，第1个预抽腔室的气压值比所述工艺腔室的气压值降低N₁倍，M为大于1的正整数，其中，M≥i≥2；

所述预抽腔室具体用于：

当打开第j个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门预设时间后，关闭所述第j个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门，按照所述M个预抽腔室的气压值降低的顺序，继续打开第j+1个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门预设时间后，关闭所述第j+1个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门，以便利用所述M个预抽腔室逐渐降低所述工艺腔室的气压值，其中，M-1≥j≥1。

5.根据权利要求2所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述预抽腔室的数量为M个，第i个预抽腔室的体积是所述工艺腔室体积的N_i倍，每个预抽腔室都与所述工艺腔室相互连接，所述M个预抽腔室的气压值都低于第三气压阈值，M为大于1的正整数，其中，M≥i≥2；

所述预抽腔室具体用于：

当打开第j个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门预设时间后，关闭所述第j个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门，按照固定顺序，继续打开第j+1个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门预设时间后，关闭所述第j+1个预抽腔室与所述工艺腔室的真空阀门，以便利用所述M个预抽腔室逐渐降低所述工艺腔室的气压值，其中，M-1≥j≥1。

6.根据权利要求2-5任意一项所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述N_i至少大于10。

7.根据权利要求3-5任意一项所述的真空闪蒸系统，其特征在于，所述M为3，所述N_i为100。

8.一种真空闪蒸方法，其特征在于，利用真空闪蒸系统对待闪蒸基片进行处理，所述真空闪蒸系统包括工艺腔室和至少一个预抽腔室，所述工艺腔室和所述预抽腔室相互连接，所述工艺腔室和所述预抽腔室的连接口处具有真空阀门，所述预抽腔室的气压值低于所述工艺腔室的气压值，所述预抽腔室的体积大于所述工艺腔室的体积；

包括：

打开所述工艺腔室和所述预抽腔室的连接口处的真空阀门，以降低所述工艺腔室的气压值。