[发明专利]投射方法、投射系统以及记录介质有效
| 申请号： | 202111493064.6 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114630089B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 黑田一平;宍户洋一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31;G03B21/14;G03B21/26 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 邓毅;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射方法、投射系统以及记录介质，能够使用与投影仪分体且未固定的拍摄装置，与投影仪和被投射物的位置关系变化对应地校正投射图像。信息处理装置(20)确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第1对应关系。在投影仪与被投射物的位置关系发生了变化时，确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第2对应关系。信息处理装置基于根据第1对应关系将发生位置关系变化前的由拍摄装置(220)拍摄的被投射物(SC)的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第3图像中的第1特征点、和根据第2对应关系将变化后的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第4图像中的与第1特征点对应的第2特征点，生成校正信息，并使用该校正信息使投影仪投射校正后的投射图像。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 方法 系统 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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