[发明专利]一种低频结合高频二次波束形成定位方法有效

专利信息
申请号: 202111488901.6 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114166339B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 柳小勤;陈邦杰 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: G01H17/00 分类号: G01H17/00;G01S5/22
代理公司: 昆明隆合知识产权代理事务所(普通合伙) 53220 代理人: 何娇
地址: 650500 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种低频结合高频二次波束形成定位方法,属于机械设备状态监测及故障诊断技术领域。本发明包括:通过各声发射传感器采集待测结构损伤时发出的声发射信号;通过主瓣、旁瓣影响因子与最大旁瓣级来确定传感器直线阵列对应的高低两种最优频带;信号通过包络降频使其频率范围满足定位最优低频带,再通过声发射波束形成算法进行低频定位后再确定主瓣范围;信号通过滤波使其频率范围满足定位最优高频带,再通过声发射波束形成算法,在已确定的主瓣范围内进行二次波束形成定位,最终波束形成输出值的最大值对应的位置即为声源的定位结果;本表明的定位方法可以避免旁瓣对定位精度的影响,改善直线阵列垂直于阵列方向定位分辨率较低的问题。
搜索关键词: 一种 低频 结合 高频 二次 波束 形成 定位 方法
【主权项】:
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