[发明专利]一种实现非辐射局域场的金属纳米结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202111487553.0 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114252412A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 刘凡新 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/01 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 赵芳 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了实现非辐射局域场的金属纳米结构及其制备方法，包含金属纳米结构蚀刻纳米压印模版、沉积金属、沉积四面体碳膜、形成七聚体结构等步骤。本发明基于柔性金属纳米手指有序阵列结构，构筑了以亚纳米级抗体大小的超小间隙的七聚体耦合结构，能够同时激发高阶模式和低阶模式，通过这两种光学模式在纵向远场辐射的共振相消，降低了辐射能量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 辐射 局域 金属 纳米 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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