[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 202111451104.0 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114622166B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 砂川贵宏;佐藤功康 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/04;H10K71/16 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供成膜装置。提供在确保用于蒸镀源的放出空间的同时具有高的附着防止性能的直列型的成膜装置的附着防止构件。一边沿搬送方向搬送基板一边进行成膜的直列型的成膜装置具有：搬送装置，具备搬送辊，该搬送辊与载置基板的掩模托盘的下表面且与基板的搬送方向交叉的交叉方向的两端部抵接而搬送掩模托盘；蒸镀装置，配置在搬送装置的下方，具有向由搬送辊搬送的基板放出蒸镀材料的蒸镀源；以及附着防止构件，限制蒸镀源放出蒸镀材料的放出范围，附着防止构件包括：第一面，与搬送辊的侧面相向，该侧面在由搬送辊搬送的基板的交叉方向上位于中心侧；以及第二面，与连接于第一面且与搬送辊的下方周面相向。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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