[发明专利]KrF光源厚膜光刻胶组合物的使用方法在审
| 申请号： | 202111448787.4 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN116203796A | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 方书农;王溯;耿志月 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种KrF光源厚膜光刻胶组合物的使用方法。具体地，本发明公开了一种以如式Ⅰ所示的化合物作为光产酸剂的KrF光源厚膜光刻胶组合物的使用方法，主要包含涂覆、预烘烤、掩模板图案复制、再烘烤和显影等步骤。经本公开的KrF厚膜光刻胶组合物的使用方法，得到的胶膜矩形性佳。 |
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| 搜索关键词： | krf 光源 光刻 组合 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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