[发明专利]一种量子点发光基板及其制备方法、显示装置在审
申请号: | 202111444952.9 | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN114171693A | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 高阳 | 申请(专利权)人: | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种量子点发光基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域。其中,量子点发光基板包括衬底、量子点发光层和量子点附加层,所述量子点发光层和所述量子点附加层在所述量子点发光基板的叠层方向上相邻设置,所述量子点发光层的发光效率大于所述量子点附加层的发光效率。在本公开实施例中,量子点附加层的发光效率较低,因此可以对量子点发光层以外的不需要发光的量子点实现发光抑制,使量子点发光基板中不需要发光的量子点无法达到量子点发光层的发光亮度,从而避免了量子点发光基板出现串色。 | ||
搜索关键词: | 一种 量子 发光 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
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