[发明专利]背照式图像传感器的形成方法在审

专利信息
申请号: 202111389578.7 申请日: 2021-11-22
公开(公告)号: CN116153951A 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 李继刚 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张瑞;唐嘉
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种背照式图像传感器的形成方法,包括:提供第一半导体衬底,所述第一半导体衬底具有相对的第一面和第二面;在所述第一半导体衬底内形成若干深沟槽;在所述深沟槽的底部和/或侧壁形成金属层;采用选择性金属沉积工艺在所述金属层上形成第一隔离结构,所述第一隔离结构填充所述深沟槽。采用选择性金属沉积工艺形成的所述第一隔离结构,能够减少在所述第一隔离结构内形成空隙,进而减少光学串扰的问题。另外,所述金属层最终也会作为隔离结构应用,且在选择性金属沉积工艺形成所述第一隔离结构的过程中,不需要形成扩散阻挡层,进而不会占用所述深沟槽的横截面。因此,不需要增加所述深沟槽的宽度,使得所述感光区入射面积增加,提高满径容量。
搜索关键词: 背照式 图像传感器 形成 方法
【主权项】:
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