[发明专利]一种用于反应腔室的电机控制装置及半导体设备有效
| 申请号： | 202111364972.5 | 申请日： | 2021-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN114318279B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 李晓强;丁斌 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/50;H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 孙向民;廉莉莉 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于反应腔室的电机控制装置及半导体设备，包括：传感器信号反射机构，所述传感器信号反射机构朝向测距传感器的一侧由下至上依次设置有多个信号反射面；所述测距传感器，与所述承载机构同步升降，所述测距传感器用于检测其与所述信号反射面之间的距离；电机控制器，用于根据所述测距传感器检测的距离控制所述电机的转速，从而控制所述承载机构的升降速度；解决现有技术中升降电机匀速运行传输效率低下、易产生振动的问题，并且解决现有技术中升降电机变速参数校准繁琐的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 反应 电机 控制 装置 半导体设备 | ||
【主权项】：
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