[发明专利]一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111359180.9 申请日: 2021-11-17
公开(公告)号: CN113921620A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 张晓丹;李兴亮;李仁杰;周佳凯;张奇星;任宁宇;陈兵兵;许盛之;侯国付;赵颖 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/18;H01L31/0725
代理公司: 天津耀达律师事务所 12223 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法。本发明开发了一种折射率渐变特性的nc‑SiOx:H减反射膜,通过调整反应气体中CO2流量来调整nc‑SiOx:H中Si、O的比例,即x的值(0x≤2)来实现折射率的梯度变化,可以实现全光谱范围的有效减反,解决了传统减反射膜对于太阳光谱入射角度和吸收层材料厚度的依赖性。另一方面,该减反射膜采用低温、低功率沉积,有效减少了等离子体中带电粒子对吸收层的轰击,在兼顾材料宽带隙、高透明度的同时,通过折射率渐变结构降低光学反射,因此成为硅基叠层电池减反射膜的理想选择。
搜索关键词: 一种 折射率 渐变 特性 减反射膜 制备 方法
【主权项】:
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