[发明专利]一种多元合金膜层的制备工艺在审

专利信息
申请号: 202111336302.2 申请日: 2021-11-12
公开(公告)号: CN114134470A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 臧龙杰;周俊荣;齐东淼;沈雷振;曾静 申请(专利权)人: 昆山世高新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 为了解决现有技术中多元合金膜层制备困难的问题,所以本发明提供了一种多元合金膜层的制备工艺,具体包括以下步骤,步骤一,制作溅射性放射腔体,将磁控性溅射源设置在真空腔内部并在真空腔内设置沉积工作台,且沉积工作台与磁控性溅射源之间保持固定距离;步骤二,准备基材和不同材质的靶材若干;步骤三,将不同靶材配合焊接在基材上并将其整体放入至溅射性放射腔体内所对应的沉积工作台上;步骤四,磁控性溅射源工作,在靶材等离子化后充分混合重新成膜在工件上;本发明可解决特殊多元合金膜层的制备的工艺问题,相较于现有技术,制作工艺简单,成本低廉;且在使用过程中不会增加额外的工时,不会降低原来生产工艺的效率。
搜索关键词: 一种 多元 合金 制备 工艺
【主权项】:
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