[发明专利]一种硅基多结太阳电池及其渐变缓冲层在审

专利信息
申请号: 202111325702.3 申请日: 2021-11-10
公开(公告)号: CN114171615A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 徐鹏飞;王岩;罗帅;季海铭 申请(专利权)人: 江苏华兴激光科技有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/0336;H01L31/0687
代理公司: 武汉江楚智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 42228 代理人: 邓寅杰
地址: 221300 江苏省徐州市邳*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种硅基多结太阳电池及其渐变缓冲层,渐变缓冲层由石墨烯层和不同组分的III‑V族化合物层交替生长而成,硅基多结太阳电池包括Si衬底,在Si衬底的上表面按照层状叠加结构从下至上依次设置有Si子电池、渐变缓冲层、第一隧道结、AlGaAs子电池、第二隧道结和AlGaInP子电池。本发明硅基多结太阳电池利用III‑V族化合物材料与石墨烯相结合的多层复合结构的渐变缓冲层可消除晶硅衬底上GaAs、AlGaAs、AlGaInP等材料层受到的失配应力,降低材料层缺陷密度,提高电池的光电转换效率。
搜索关键词: 一种 基多 太阳电池 及其 渐变 缓冲
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏华兴激光科技有限公司,未经江苏华兴激光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111325702.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top