[发明专利]利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统在审
| 申请号： | 202111286344.X | 申请日： | 2018-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN114185179A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 杨书强;V·辛格;K·罗;N-W·皮;F·Y·徐 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G02B27/44 | 分类号： | G02B27/44;G02B5/18;G02B27/00;G02B27/01;G02B27/42;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;于静 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统。一种制造具有变化的衍射元件深度的衍射结构的方法包括提供阴影掩模，该阴影掩模具有第一区域和第二区域，第一区域具有第一孔径尺寸与孔径周期比，第二区域具有小于第一孔径尺寸与孔径周期比的第二孔径尺寸与孔径周期比。该方法还包括邻近基板定位该阴影掩模。基板包括对应于衍射结构的蚀刻掩模。该方法进一步包括：将基板暴露于蚀刻剂；蚀刻基板以形成邻近第一区域的具有第一深度的衍射元件；以及蚀刻基板以形成邻近第二区域的具有小于第一深度的第二深度的衍射元件。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 阴影 实现 可调 梯度 图案 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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