[发明专利]一种晶圆质量预测方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111189877.6 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN113642257A 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 孙姗姗;徐东东;蔡栋煌 申请(专利权)人: 晶芯成(北京)科技有限公司
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27;G06K9/62;G06Q10/04;G06Q10/06;G06Q50/04
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 王积毅
地址: 102199 北京市大兴区经济技术开发*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种晶圆质量预测方法及系统,涉及半导体加工技术领域。本发明包括:获取传感采集数据以及对应晶圆质量等级,其中,传感采集数据由传感器采集,传感器设置于加工站点;将传感采集数据,作为预测模型的输入层,将对应晶圆质量等级,作为预测模型的输出层,用以对预测模型进行训练,并训练预测模型至识别准确;筛选出对晶圆质量等级敏感的加工站点和传感器,分别为关键加工站点和关键传感器;当待测晶圆进行加工时,将关键加工站点中的关键传感器,采集到的传感采集数据,输入至预测模型,用以得到晶圆预测质量等级。本发明通过传感器采集晶圆加工过程中产生的传感采集数据,对晶圆质量等级进行预测,改善了晶圆加工检测效率较低的问题。
搜索关键词: 一种 质量 预测 方法 系统
【主权项】:
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