[发明专利]一种真空镀膜机的真空镀膜方法有效

专利信息
申请号: 202111184204.1 申请日: 2021-10-12
公开(公告)号: CN113621920B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 刘毅;黄鹏飞 申请(专利权)人: 江苏晋誉达半导体股份有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/14;C23C14/50
代理公司: 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 代理人: 金星
地址: 215600 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种真空镀膜机的真空镀膜方法,包括以下步骤:S1、设备的前期准备:S11、提供一种真空镀膜机;S12、阀瓣与阀座密封对冷泵建立真空;S13、基片和靶材放置好;S2对镀膜腔内进行粗抽真空,冷泵自身继续抽真空;S3、粗抽真空结束;S4、阀瓣与阀座分开,利用冷泵继续对镀膜腔再次建立真空;S5、阀瓣与阀座密封;S6、启动蒸发程序;S7、停止工作;S8、破空;S9、将基片从镀膜腔中取出;S10、更换新一批的基片后重复步骤S2至S9。该真空镀膜方法能够减少真空环境形成的时间,提高真空镀膜的效率。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 方法
【主权项】:
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