[发明专利]一种真空镀膜机的真空镀膜方法有效
申请号: | 202111184204.1 | 申请日: | 2021-10-12 |
公开(公告)号: | CN113621920B | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 刘毅;黄鹏飞 | 申请(专利权)人: | 江苏晋誉达半导体股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/14;C23C14/50 |
代理公司: | 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 | 代理人: | 金星 |
地址: | 215600 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空镀膜机的真空镀膜方法,包括以下步骤:S1、设备的前期准备:S11、提供一种真空镀膜机;S12、阀瓣与阀座密封对冷泵建立真空;S13、基片和靶材放置好;S2对镀膜腔内进行粗抽真空,冷泵自身继续抽真空;S3、粗抽真空结束;S4、阀瓣与阀座分开,利用冷泵继续对镀膜腔再次建立真空;S5、阀瓣与阀座密封;S6、启动蒸发程序;S7、停止工作;S8、破空;S9、将基片从镀膜腔中取出;S10、更换新一批的基片后重复步骤S2至S9。该真空镀膜方法能够减少真空环境形成的时间,提高真空镀膜的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 方法 | ||
【主权项】:
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