[发明专利]一种真空镀膜机的真空镀膜方法

权利要求书

1.一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、设备的前期准备：

S11、提供一种真空镀膜机，包括立式的镀膜腔，镀膜腔的底部安装有用于放置靶材的坩埚和用于对靶材进行加热的电子枪，所述镀膜腔的顶部旋转安装有用于放置基片的自转架，所述自转架由旋转动力装置驱动，所述镀膜腔的一侧设置有冷却腔体，所述冷却腔体上固定有冷泵连接法兰，所述冷泵连接法兰上设置有方便对冷泵抽气的抽气口，所述冷却腔体内在冷泵连接法兰处安装有阀座，该阀座将冷却腔体分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室与镀膜腔内腔连通，所述冷泵连接法兰的外部安装有与第二腔室联通的冷泵，所述冷却腔体上滑动有阀瓣，所述阀瓣由第一开闭动力装置驱动与阀座相互密封配合；所述冷却腔体上设置有与第一腔室联通的抽真空管接口，所述抽真空管接口与抽真空系统连通；

S12、第一开闭动力装置驱动阀瓣与阀座相互密封配合，从抽气口对冷泵自身抽真空使冷泵建立真空；

S13、将基片放置在自转架上，并且将靶材放置坩埚内；

S2、当冷泵的冷板温度达到零下220±5℃时，启动抽真空系统对镀膜腔内进行粗抽真空，在此过程中冷泵自身继续抽真空；所述步骤S2粗抽真空过程中还包括对镀膜腔内壁进行加热的加热步骤，该加热步骤在粗抽空真空过程中启动加热，所述的加热步骤采用电加热板加热，电加热板固定在镀膜腔的内壁且外部利用防护板防护；

S3、当冷泵的冷板温度达到零下270±5℃时，冷泵持续工作并保持当前真空度，当镀膜腔内的真空度达到设定值时，粗抽真空结束，关闭抽真空管接口；

S4、停止加热步骤，第一开闭动力装置驱动阀瓣与阀座分开，利用冷泵继续对镀膜腔再次建立真空；

S5、当镀膜腔内的真空度满足工艺要求后，第一开闭动力装置驱动阀瓣与阀座配合密封；

S6、启动旋转动力装置使自转架旋转，启动电子枪产生高能电子束，电子束对坩埚内的靶材金属加热使其蒸发，蒸发的金属气体上升沉积在自转架上的基片上；

S7、镀膜完成后，电子枪和旋转动力装置停止工作；

S8、往镀膜腔内通入氮气破空；

S9、将基片从镀膜腔中取出；

S10、更换新一批的基片后重复步骤S2至S9，直至坩埚内的靶材全部消耗完全；

所述真空镀膜方法还包括辅助真空建立方法，在镀膜腔的侧壁设置安装腔室，安装腔室上固定有冷头和与冷头相连接的冷凝板，安装腔室上滑动安装有将安装腔室封堵或打开的封堵防护板；在步骤S4的过程中，打开封堵防护板，冷凝板持续对镀膜腔内辅助建立真空，而在步骤S6过程中，封堵防护板将安装腔室封闭。

2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：所述真空镀膜方法还包括对自转架上的镀膜空间部分遮挡的遮挡方法，该遮挡方法利用若干个径向延伸的遮挡片部分遮挡基片的镀膜区域，遮挡片上具有用于遮挡自转架外圈基片的外遮挡部和用于遮挡自转架内圈基片的内遮挡部，外遮挡部的面积大于内遮挡部的面积。

3.如权利要求2所述的一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：所述遮挡方法中的遮挡片角度可调。

4.如权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：所述步骤S9中将基片从镀膜腔中取出的方法为：将自转架整体从镀膜腔中取出。

5.如权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：所述自转架为球面状的自转架，坩埚处于自转架的球面中心。

6.如权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于：所述冷却腔体和镀膜腔之间设置有栅格防护结构。