[发明专利]一种CVD装置及其分散进气方法在审
申请号: | 202111180421.3 | 申请日: | 2021-10-11 |
公开(公告)号: | CN113881931A | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 刘柏希;韩长海;龚涛;齐家庆 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54 |
代理公司: | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 | 代理人: | 徐新 |
地址: | 411105 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种CVD装置,包括外腔体、外腔盖,外腔体内部设置有内反应腔A、内反应腔B以及内反应腔C;外腔盖上设置有蜗杆减速机、伺服减速电机、升降装置、升降架以及花键轴,蜗杆减速机设置在外腔盖上,伺服减速电机与蜗杆减速机固定连接,升降装置为两个,两个升降装置设置在外腔盖上,升降架设置在两个升降装置的顶部,花键轴转动设置在蜗杆减速机内,且花键轴一端与升降架固定连接、另一端穿过外腔盖并往外腔体内延伸,花键轴朝向外腔体的一端固定连接有安装板,安装板上设置有与内反应腔A、内反应腔B、内反应腔C对应的第一内腔盖、第二内腔盖、第三内腔盖,第一内腔盖、第二内腔盖、第三内腔盖朝向外腔体底部的一面均固定设置有托架。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 装置 及其 分散 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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