[发明专利]曲面电子装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202111171989.9 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN114023781B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 高秉详;赖玟佑;陈伯纶;陈俊达;林柏青;许雅筑 申请(专利权)人: 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H10K59/40;H10K59/10;G06F3/041
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 杨冬梅;张锡军
地址: 611730 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明系一种曲面电子装置及其制造方法,包括基材、元件层及调控层,元件层系设在基材上,元件层系由布设在基材的复数个电子元件及其连接线路所构成,而调控层系设在元件层上,并在元件层上形成至少一个图案区及至少一个空白区,其中空白区提供其中一部份的电子元件露出调控层,且调控层与基材分别具有不同的吸热率,使得基材在对应空白区与图案区位置在制造过程中产生不同的软化程度,以避免基材在拉伸过程造成元件层的损坏。
搜索关键词: 曲面 电子 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
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