[发明专利]用于提高外延片波长均匀性的石墨基板在审
| 申请号： | 202111160674.4 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN114134563A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 葛永晖;陈张笑雄;郭炳磊;肖云飞;陆香花;李鹏 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 吕耀萍 |
| 地址： | 322000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种提高外延片波长均匀性的石墨基板，属于半导体技术领域。石墨基板包括第一基板、第二基板和排气装置，第一基板和第二基板均为圆盘；第一基板的上表面具有用于容纳衬底的多圈第一凹槽，第一基板的中部具有一圆形凹坑，圆形凹坑的底部具有多个气孔；第二基板同轴布置在圆形凹坑内，且第二基板的上表面具有用于容纳衬底的多圈第二凹槽；排气装置被配置为，在不同工作状态下，为多个气孔提供设定流量的气体，使得第二基板悬浮在圆形凹坑内，与第一基板分离，并使得第二基板以设定转速与第一基板同向或反向转动。在本公开提供的石墨基板上生长外延片，可以改善在石墨基板各凹槽内生长的外延片的波长均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提高 外延 波长 均匀 石墨 | ||
【主权项】：
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