[发明专利]用于提高外延片波长均匀性的石墨基板在审
| 申请号： | 202111160674.4 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN114134563A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 葛永晖;陈张笑雄;郭炳磊;肖云飞;陆香花;李鹏 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 吕耀萍 |
| 地址： | 322000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 提高 外延 波长 均匀 石墨 | ||
1.一种用于提高外延片波长均匀性的石墨基板，其特征在于，所述石墨基板包括第一基板、第二基板和排气装置，所述第一基板和所述第二基板均为圆盘；
所述第一基板的上表面具有用于容纳衬底的多圈第一凹槽，所述多圈第一凹槽呈环形布置在所述第一基板上，所述第一基板的中部具有一圆形凹坑，所述圆形凹坑和所述多圈第一凹槽同轴，所述圆形凹坑的底部具有多个气孔；
所述第二基板同轴布置在所述圆形凹坑内，且所述第二基板的上表面具有用于容纳所述衬底的多圈第二凹槽，所述多圈第二凹槽呈环形布置在所述第二基板上；
所述排气装置被配置为，在不同工作状态下，为所述多个气孔提供设定流量的气体，使得所述第二基板悬浮在所述圆形凹坑内，与所述第一基板分离，并使得所述第二基板以设定转速与所述第一基板同向或反向转动。
2.根据权利要求1所述的石墨基板，其特征在于，所述排气装置包括第一工作状态、第二工作状态和第三工作状态，
当所述排气装置处于所述第一工作状态时，所述第二基板悬浮在所述圆形凹坑内，与所述第一基板分离，且所述第二基板不转动；
当所述排气装置处于所述第二工作状态时，所述第二基板悬浮在所述圆形凹坑内，与所述第一基板分离，且所述第二基板沿顺时针方向转动；
当所述排气装置处于所述第三工作状态时，所述第二基板悬浮在所述圆形凹坑内，与所述第一基板分离，且所述第二基板沿逆时针方向转动。
3.根据权利要求2所述的石墨基板，其特征在于，所述多个气孔为孔径可调的孔，且所述多个气孔位于同一圆周上。
4.根据权利要求3所述的石墨基板，其特征在于，当所述排气装置处于所述第一工作状态时，所述多个气孔的孔径均相同。
5.根据权利要求3所述的石墨基板，其特征在于，当所述排气装置处于所述第二工作状态时，所述多个气孔的孔径沿所述圆周的顺时针方向逐渐增大。
6.根据权利要求3所述的石墨基板，其特征在于，当所述排气装置处于所述第三工作状态时，所述多个气孔的孔径沿所述圆周的逆时针方向逐渐增大。
7.根据权利要求2所述的石墨基板，其特征在于，当所述排气装置处于所述第一工作状态时，所述排气装置同时向所述多个气孔提供气体压力大于等于第一阈值的气体，使所述第二基板悬浮在所述圆形凹坑内，所述第一阈值为0.5～5psi。
8.根据权利要求1至7任一项所述的石墨基板，其特征在于，所述第二基板的厚度小于等于所述圆形凹坑的深度。
9.根据权利要求1至7任一项所述的石墨基板，其特征在于，所述第一基板的厚度为2～25mm，直径为70～200mm。
10.根据权利要求1至7任一项所述的石墨基板，其特征在于，所述第二基板的厚度为2～15mm，直径为400～900mm。
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