[发明专利]陶瓷封装芯片去层制样方法在审

专利信息
申请号: 202111157474.3 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113921424A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 梁朝辉;林晓玲;杨颖;王宏芹;高汭 申请(专利权)人: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 付兴奇
地址: 511300 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种陶瓷封装芯片去层制样方法,该方法包括:通过研磨或机械方式将目标芯片的金属盖打开,所述目标芯片通过陶瓷封装;利用包封环氧胶对所述目标芯片进行包封,得到包封环氧胶的样品;将所述包封环氧胶的样品放入烘箱中烘烤硬化,得到烘烤硬化后的样品;切割所述烘烤硬化后的样品的陶瓷壳体,得到切割后的样品,所述切割后的样品包括芯片部位和位于所述芯片部位四周的包封环氧胶;对所述研磨后的样品进行抛光,得到去层后的芯片等步骤。本申请能够对陶瓷封装芯片进行去层处理,以露出陶瓷封装芯片内的电路结构,并避免破坏所述陶瓷封装芯片内的电路结构。
搜索关键词: 陶瓷封装 芯片 去层制样 方法
【主权项】:
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