[发明专利]电化学沉积用阳极组件及电化学沉积设备有效
| 申请号： | 202111157010.2 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN113737260B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 王成飞;闫俊伟;袁广才;孙少东;张国才;董士豪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D17/02;C25D17/10;C25D21/12 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁;王存霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种电化学沉积用阳极组件及电化学沉积设备。该阳极组件包括：支架，固定在电镀槽的侧壁上上；阳极结构，包括阳极极板和多个调节板，连接件，将所述阳极组件固定在支架上且使所述阳极极板与所述支架所固定的侧壁平行；其中，任一所述调节板位于所述阳极极板与所述支架所固定的侧壁之间，或者位于所述阳极极板远离所述支架所固定的侧壁的一侧，位于所述阳极极板与所述支架所固定的侧壁之间的所述调节板的数量不同则阳极极板与作为阴极的待镀基板之间的距离不同。本实施例中的阳极组件通过调整调节板的位置，能够对阴阳极距的调整，以使阴阳极距处于电镀工艺需要的范围，从而提升电镀膜层的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 沉积 阳极 组件 设备 | ||
【主权项】：
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