[发明专利]相位移光罩的修补方法、修补装置以及相位移光罩

摘要

本发明公开了一种相位移光罩的修补方法、修补装置以及相位移光罩，所述修补方法包括：提供一待修补的相位移光罩，所述相位移光罩具有透明基底，所述透明基底具有第一表面，所述第一表面上具有不透光线条；获取所述不透光线条的图形结构，以确定所述相位移光罩中所述不透光线条的缺失部分；在所述第一表面对应所述缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，以降低所述区域的透光率。应用本发明提供的技术方案，通过使用光罩修补机台以刻蚀修补法的方式进行玻璃损害修补，可以降低遮光率，并减少光学邻近效应。