[发明专利]相位移光罩的修补方法、修补装置以及相位移光罩

权利要求书

1.一种相位移光罩的修补方法，其特征在于，所述修补方法包括：

提供一待修补的相位移光罩，所述相位移光罩具有透明基底，所述透明基底具有第一表面，所述第一表面上具有不透光线条；

获取所述不透光线条的图形结构，以确定所述相位移光罩中所述不透光线条的缺失部分；

在所述第一表面对应所述缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，以降低所述区域的透光率。

2.根据权利要求1所述的修补方法，其特征在于，所述透明基底为玻璃基板；

在所述第一表面对应所述缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，包括：

通过电子束以及刻蚀气体对所述透明基底进行刻蚀，在所述第一表面形成所述刻蚀沟槽；

或，通过离子束对所述透明基底进行刻蚀，在所述第一表面形成所述刻蚀沟槽；

或，通过激光束对所述透明基底进行刻蚀，在所述第一表面形成所述刻蚀沟槽；

或，通过机械力对所述透明基底进行刻蚀，在所述第一表面形成所述刻蚀沟槽。

3.根据权利要求2所述的修补方法，其特征在于，如果通过电子束以及刻蚀气体对所述透明基底进行刻蚀，所述刻蚀气体为是XeF₂。

4.根据权利要求1所述的修补方法，其特征在于，所述不透光线条包括：主图形线、第一辅助线和第二辅助线；所述主图形线位于所述第一辅助线与所述第二辅助线之间；

所述第一辅助线至少部分缺失，所述第一辅助线具有第一缺失部分；在所述第一表面对应所述第一缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，包括：在所述第一表面对应所述第一缺失部分的区域形成第一刻蚀槽；

和/或，所述第二辅助线至少部分缺失，所述第二辅助线具有第二缺失部分；在所述第一表面对应所述第二缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，包括：在所述第一表面对应所述第二缺失部分的区域形成第二刻蚀槽。

5.一种相位移光罩的修补装置，其特征在于，所述修补装置包括：

图像采集设备，用于采集待修补相位移光罩中不透光线条的图形结构；所述相位移光罩具有透光基底，所述透明基底具有第一表面，所述第一表面上具有所述不透光线条；

与所述图像采集设备连接的主机，用于基于所述图形结构确定所述相位移光罩中所述不透光线条的缺失部分；

与所述主机连接的刻蚀设备，用于响应所述主机的控制，在所述第一表面对应所述缺失部分的区域形成刻蚀沟槽，以降低所述区域的透光率。

6.一种相位移光罩，其特征在于，所述相位移光罩的包括：

透光基底，所述透明基底具有第一表面，所述第一表面上具有多条不透光线条；所述不透光线条具有缺失部分；

对应所述缺失部分的区域具有刻蚀沟槽，所述刻蚀沟槽用于降低所述区域的透光率。

7.根据权利要求6所述的相位移光罩，其特征在于，所述透明基板为玻璃基板，所述不透光线条为位于所述第一表面的MoSi条状结构。

8.根据权利要求6所述的相位移光罩，其特征在于，所述刻蚀沟槽的深度小于所述透明基底的深度，宽度等于所对应不透光线条的宽度。

9.根据权利要求6所述的相位移光罩，其特征在于，所述不透光线条包括：

主图形线、第一辅助线和第二辅助线；所述主图形线位于所述第一辅助线与所述第二辅助线之间；

所述第一辅助线至少部分缺失，所述第一辅助线具有第一缺失部分；所述刻蚀沟槽包括：位于所述第一缺失部分对应区域的第一刻蚀沟槽；

和/或，所述第二辅助线至少部分缺失，所述第二辅助线具有第二缺失部分；所述刻蚀沟槽包括：位于所述第二缺失部分对应区域的第二刻蚀沟槽。