[发明专利]镀膜设备在审
| 申请号： | 202111105642.4 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113862644A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 廖宝臣;王亨;张良俊;李翔;黎微明 | 申请（专利权）人： | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 黎坚怡 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种镀膜设备，包括：反应腔；温控部；第一气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第一预设温度范围内时，向反应腔提供第一镀膜气体，使得反应腔内产生原子层沉积反应/等离子体增强原子层沉积反应；真空系统；第二气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第二预设温度范围内时，向反应腔提供第二镀膜气体；电源，用于在真空系统将反应腔内的真空度控制在预定真空度范围内，以及第二气体供给部向反应腔提供第二镀膜气体后，向反应腔内馈入电压，使得反应腔内产生等离子体增强化学气相沉积反应。本申请的镀膜设备既能进行原子层沉积工艺/等离子体增强原子层沉积工艺，也能进行等离子体增强化学气相沉积工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
