[发明专利]真空层叠装置及层叠体的制造方法在审
| 申请号： | 202111094437.2 | 申请日： | 2021-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN114193901A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 泽田智世;森隆博 | 申请（专利权）人： | 日机装株式会社 |
| 主分类号： | B32B37/12 | 分类号： | B32B37/12;B32B38/18 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;王锦阳 |
| 地址： | 日本东京都涉*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及提供能够使需要进行真空措施的零件减少，而进行对准动作及层叠动作的真空层叠装置及层叠体的制造方法。本发明的解决手段的真空层叠装置(100)具备：运送板(1)，保持工件(W)；对准机构(30)，固定支撑运送板(1)，并且进行运送板(1)所保持的工件(W)的对位；层叠机构(50)，于真空下将已对位的工件(W)层叠；及运送机构(40)，于工件(W)保持于运送板(1)的状态下，固定支撑运送板(1)，并且将工件(W)从对准机构(30)运送至层叠机构(50)；运送板(1)可与对准机构(30)及运送机构(40)进行拆装，且将工件(W)带电固定于一侧，另一侧与运送机构(40)磁性固定。据此，能够使需要进行真空措施的零件减少，而进行对准动作及层叠动作。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 层叠 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
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